超快激光三维微纳制造系统
型号：Quantum X shape
厂商：Nanoscribe Inc.
设备性能：
（1）配备有双光子灰度光刻技术，光斑调节速率高达1MHz，加工范围大于：20×20 ×20mm3；速度大于：5 mm/s；
（2）63倍光学辨率:形状精度 ≤200 nm；
（3）加工结构表面粗糙度：≤10 nm；
（4）批量加工：200个典型的介观尺度结构可在12小时完成加工；
（5）激光：780 nm；平均功率250 mW；
（6）加工方式：正置；衬底：玻璃，硅片
设备功能：
面向微纳米工程、固体量子、集成光子、生物医学工程等领域对跨尺度、高精度器件的需求，基于双光子聚合效应，实现具备纳米精度的、厘米级三维微纳功能结构的制备。